广东金鑫得新材料有限公司是以*创的HPS真空热压烧结系统为装备基础,致力于合金新材料研制、开发、生产及应用和相关技术服务的高新科技企业。
靶材发展前景
我国研发的**大尺寸、高密度、高纯W-Ti 靶材,是属于新型的离子溅射镀膜靶材料。可广泛应用于显示屏的阻挡层或调色层,笔记本电脑的装饰层、电池的封装、太阳能(光伏)电池的阻挡层,具有很好市场前景和经济效益。另一方面又可带动我国钨产业的产品升级换代,获得更高的附加值。
广东金鑫得新材料有限公司是以*创的HPS真空热压烧结系统为装备基础,金属靶材生产厂家,致力于合金新材料研制、开发、生产及应用和相关技术服务的高新科技企业。
靶材的研究热点
近年来,越来越多的国内外研究人员通过向基靶内添加稀土元素来改良靶材性能,进而提高溅镀薄膜的综合性能。
Aq金属膜具有低电阻、高光反射率等优点,但其缺点是对基板的附着性低,易产生应力变形,且耐热性和耐腐蚀性均较低。日立金属株式会社在Ag合金中添加Sm(杉)、 Dy(),金属靶材, Tb(拭)稀土元素,应用该Ag合金靶材获得了低电阻、高反射率、高耐热性、耐环境性,高附着性的Ag合金膜。传统制备金属膜或金属氧化膜电阻器的常用溅射靶材为Cr-Ni-Si , Cr-Ni ,金属靶材加工, Cr-Ni, Cr-SiOx系合金和化合物,但上述靶材的通用性较差,无法达到用一种溅射靶材能同时适合于制备金属膜电阻器和金属氧化膜电阻器,金属靶材价格,致使工艺复杂,生产成本高。上海交通大学昊建生等人通过向CrNiSi三元合金加入0.1%~3%的铜系和钢系稀土元素,提高了靶材的通用性、精密性和稳定性。